Paper List 2016 (Atsushi Takahashi, Tokyo Tech)

Last modified: 1 December 2016

Ahmed Awad, Atsushi Takahashi, Chikaaki Kodama.
A Fast Mask Manufacturability and Process Variation Aware OPC Algorithm with Exploiting a Novel Intensity Estimation Model.
IEICE Trans. Fundamentals, Vol.E99-A, No.12, pp.2363-2374, 2016.
( IEICE Transactions Online )
Yukihide Kohira, Chikaaki Kodama, Tomomi Matsui, Atsushi Takahashi, Shigeki Nojima, Satoshi Tanaka.
Yield-aware mask assignment by positive semidefinite relaxation in triple patterning using cut process.
Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS (JM3), Vol.15, No.2, 021207, March 11, 2016.
( SPIE Digital Library )

Yukihide Kohira, Atsushi Takahashi, Tomomi Matsui, Chikaaki Kodama, Shigeki Nojima, Satoshi Tanaka.
Manufacturability-aware Mask Assignment in Multiple Patterning Lithography.
Proc. Asia Pacific Conference on Circuits and Systems (APCCAS 2016), pp.538-541, Jeju, Korea, October 25-28, 2016.
(IEEE Xplore)
Shimpei Sato, Hiroshi Nakatsuka, Atsushi Takahashi.
Performance Improvement of General-Synchronous Circuits by Variable Latency Technique using Dynamic Timing-Error Detection.
Proc. the 20th Workshop on Synthesis And System Integration of Mixed Information technologies (SASIMI 2016), R1-13, pp.60-65, Kyoto, October 24-25, 2016.
Ahmed Awad, Atsushi Takahashi.
A Lithographic Mask Manufacturability and Pattern Fidelity Aware OPC Algorithm.
Proc. the 2016 International Symposium on VLSI Design, Automation and Test (VLSI-DAT 2016), pp.D3-7-1-4, Hsinchu, Taiwan, April 25-27, 2016.
(IEEE Xplore)
Ahmed Awad, Atsushi Takahashi, Chikaaki Kodama.
A Fast Manufacturability Aware Optical Proximity Correction (OPC) Algorithm with Adaptive Wafer Image Estimation.
Proc. Design, Automation and Test in Europe (DATE 2016), pp.49-54, Dresden, Germany, March 14-18, 2016.
(ACM Digital Library) (IEEE Xplore)
Takeshi Ihara, Toshiyuki Hongo, Atsushi Takahashi, Chikaaki Kodama.
Grid-based Self-Aligned Quadruple Patterning Aware Two Dimensional Routing Pattern.
Proc. Design, Automation and Test in Europe (DATE 2016), pp.241-244, Dresden, Germany, March 14-18, 2016.
(ACM Digital Library) (IEEE Xplore)

木村優介，佐藤真平，高橋篤司．
Self-Aligned Double Patterningのための柔軟な2彩色配線法の提案．
DAシンポジウム2016論文集, 情報処理学会シンポジウムシリーズ, Vol.2016, No.6, pp.26-31, 2016年9月14-16日.
(情報処理学会電子図書館)
半田昌平，高橋篤司，中田和秀，松井知己．
半正定値計画緩和に基づく擬似スティッチを用いたTPLのためのレイアウト分割手法．
第29回回路とシステムワークショップ論文集, pp.214-219, 2016年5月13日.
( T2R2 )
半田昌平，高橋篤司，中田和秀，松井知己．
半正定値計画緩和に基づくMPLレイアウト分割のための補正項．
電子情報通信学会総合大会講演論文集 (A-6-12), Vol.A, p.86, 2016年3月17日.
( T2R2 )

西原明法，篭橋雄二，高橋篤司，山田明.
6大学人財交流による共同教員育成．
日本教育工学会第32回全国大会，1a-B107-01，2016年9月．
( T2R2 )
本江俊幸，高橋篤司．
Self-Aligned Quadruple Patterningのための3色グリッド上の異色ネットを考慮した配線手法．
電子情報通信学会技術研究報告 (VLD2015-135), Vol.115, No.465, pp.137-142, 2016年3月2日.
中塚裕志，高橋篤司．
動的タイミングエラー検出を用いた可変レイテンシ化による一般同期式回路の高性能化．
電子情報通信学会技術研究報告 (VLD2015-140), Vol.115, No.465, pp.167-172, 2016年3月2日.

Atsushi Takahashi.
Routing Algorithms - from classic to advanced -
The Chinese University of Hong Kong (CUHK), April 29, 2016.